[发明专利]半导体激光装置无效

专利信息
申请号: 200510116450.8 申请日: 2005-10-21
公开(公告)号: CN1764027A 公开(公告)日: 2006-04-26
发明(设计)人: 早川利郎;浅野英树;长滨慎一;松本祐司;甲本克敏 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社;日亚化学工业株式会社
主分类号: H01S5/20 分类号: H01S5/20;H01S5/22;H01S5/343;H01S5/323;H01S5/40;H01S5/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明是具有折射率波导结构,将横模为高次模或多模来振荡的GaN系的带状型半导体激光器的多个发光区域,能够聚光为高亮度,抑制水平光束辐射角度为小。本发明具有:例如,在p-GaN盖层(28)和p-Al0.1Ga0.9N金属包层(27),形成宽度W2的脊形结构所形成的折射率波导结构。横模为高次模或多模来振荡的GaN系的带状型半导体激光器中,将带中央部与带外部之间的实效折射率差Δn设定为1.5×10-2以下。
搜索关键词: 半导体 激光 装置
【主权项】:
1、一种半导体装置,其特征在于:在具有折射率波导结构,横模为高次模或多模来振荡的GaN系的带状型半导体激光装置中,带中央部与带外部之间的实效折射率差Δn为1.5×10-2以下。
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