[发明专利]钻石薄膜制造方法无效
| 申请号： | 200510116619.X | 申请日： | 2005-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN1955333A | 公开（公告）日： | 2007-05-02 |
| 发明（设计）人： | 黄仁烜;张孝国;王明辉;陈志鹏;钟至贤 | 申请（专利权）人： | 中国砂轮企业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁挥;祁建国 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种钻石薄膜制造方法，包括有下列步骤：提供一个基材，置于一真空腔室中；以一靶材置入该真空腔室，用以产生多个靶材粒子，并使靶材粒子以一可变化的入射角朝向该基材的一侧面并沉积于该基材而形成一缓冲层；及将一钻石材料镀膜于该缓冲层，形成一钻石薄膜；及去除该基材。本发明可以消除因为材料热膨胀系数、晶格尺寸、原子结构的差异造成的残余应力，同时可轻易地将基材与钻石晶圆加以分离，或是通过缓冲层使钻石薄膜更容易与另一底材进行结合。 | ||
| 搜索关键词： | 钻石 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种钻石薄膜制造方法，其特征在于，包括有下列步骤：提供一个基材，置于一真空腔室中；以一靶材置入该真空腔室，用以产生多个靶材粒子，并使靶材粒子以一可变化的入射角朝向该基材的一侧面并沉积于该基材而形成一缓冲层；及将一钻石材料镀膜于该缓冲层，形成一钻石薄膜；及去除该基材。
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