[发明专利]基板载置台、基板处理装置及基板的温度控制方法

摘要

本发明提供一种基板载置台，它能够提高被处理基板的温度均匀性和温度控制响应性，且能够得到充分的温度控制性。在基板处理装置中用来载置基板的基板载置台(4)包括：静电卡盘(42)，构成载置台本体；周缘环状凸部(61)，形成在静电卡盘(42)的基准面(60)上，在载置晶片(W)时与晶片的周缘部接触，此时，在晶片(W)的下方部分形成填充热传导用气体的密闭空间(62)；多个第一突起部(63)，设置在基准面(60)的周缘环状凸部(61)的内侧部分，在载置晶片(W)时与晶片(W)接触；多个第二突起部(64)，设置在基准面(60)的周缘环状凸部(61)的内侧部分，与第一突起部(63)独立，在载置晶片(W)时不与晶片(W)接触地接近。

主权项

1.一种基板载置台，在基板处理装置中用于载置基板，其特征在于，包括：载置台本体；周缘环状凸部，它形成于所述载置台本体的基板载置侧的基准面上，使得在载置基板时与基板的周缘部接触，此时，在基板的下方部分形成填充热传导用气体的密闭空间；多个第一突起部，它设置在所述基准面的所述周缘环状凸部的内侧部分，使得在载置基板时与基板接触；多个第二突起部，它设置在所述基准面的所述周缘环状凸部的内侧部分，与所述第一突起部独立，在载置基板时，不与基板接触地接近。