[发明专利]用于具有基本设计限制的集成电路的技术迁移的方法和系统有效
| 申请号： | 200510117036.9 | 申请日： | 2005-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN1801160A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | 袁昕;K·W·麦卡伦;邢福仑;R·F·沃克;J·希伯勒;R·J·爱伦;R·R·纳拉扬;C·V·恩迪科特 | 申请（专利权）人： | 国际商业机器公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 于静;李峥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于使集成电路(IC)设计从没有基本设计限制(RDR)的源技术迁移至具有RDR的目标技术的系统、方法和程序产品。本发明实现满足RDR需求的最小布图扰动方法。本发明还解决了插入需要的虚拟形状并延伸关键形状和/或虚拟形状的长度以满足“边缘覆盖度”需求的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 具有 基本 设计 限制 集成电路 技术 迁移 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于使集成电路(IC)设计布图从没有基本设计限制(RDR)的源技术迁移至具有RDR的目标技术的方法，该方法包括以下步骤：认证设计布图，以满足RDR栅格约束并在第一方向上固定任意基本规则违规；插入需要的虚拟形状；以及运行最小扰动分析，以便满足至少一个关键形状的边缘覆盖度需求并在第二方向上固定任意基本规则违规。
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