[发明专利]基片固定盘及利用该基片固定盘的基片校正系统及其方法有效

专利信息
申请号: 200510117051.3 申请日: 2005-10-31
公开(公告)号: CN1800443A 公开(公告)日: 2006-07-12
发明(设计)人: 韩尚辰;宋官燮;康熙哲;郑锡宪 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/50;C23C14/24
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 韩明星;李云霞
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种基片固定盘,为了在真空工程用垂直基片固定盘的平板面上固定和支持所述基片,包含至少一部分以上基片固定单元,并且,通过固定和支持垂直布置的基片,可以进行高精度的校正和更加稳定的蒸镀工艺。基片固定盘(60)及利用该基片固定盘(60)的基片校正系统及其方法,包含被蒸镀蒸镀物的基片(10)、用于容纳所述基片(10)的框架(70)、用于容纳所述框架(70)而构成的盘(60)、用于在所述框架(70)上固定和支持所述基片(10)而构成的至少一个以上基片固定单元(110)。
搜索关键词: 固定 利用 校正 系统 及其 方法
【主权项】:
1、基片固定盘,其特征在于包含:用于被蒸镀蒸镀物的基片;用于容纳所述基片而构成的框架;用于容纳所述框架而构成的盘;用于在所述框架上固定和支持所述基片的至少一个以上的基片固定单元。
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