[发明专利]基板处理系统

摘要

本发明涉及一种基板处理系统，抑制由处理气体造成的测定装置的污染。在测定装置(4)的框体(30)内设置用于形成测定室(S)的测定区域(40)。测定室(S)将晶片(W)的搬运口(33)作为一个侧面，形成为长方体形状。在测定室(S)内设置载置板(42)。光学系统(45)被设置在分隔测定室(S)的顶面的相反侧。由此，光学系统(45)和测定室(S)的通气被遮断。在测定室(S)上设置向搬运口(33)提供清洁空气的供气口(50)。将晶片(W)送入测定室(S)，对晶片(W)进行测定时，从供气口(50)向搬运口(33)提供清洁的空气，将从搬运口(33)流入测定室(S)的处理气体稀释或压回去。

主权项

1.一种基板处理系统，其特征在于，具有一体化的下述装置：使用处理气体对基板进行处理的处理装置；对用所述气体处理装置处理的基板进行测定的测定装置；和将用所述气体处理装置处理的基板搬运到所述测定装置的搬运装置，所述测定装置具有载置基板的载置部；向该载置部上载置的基板照射光，对基板进行测定的光学测定部；和容纳所述载置部，对所述载置部上的基板进行测定的测定室，在所述测定室上形成有利用所述搬运装置将基板搬运到所述载置部用的基板搬运口，所述光学测定部中的空间和所述测定室之间的通气被构成该测定室的壁面遮断。