[发明专利]用选择性金属蚀刻提高声共振器的性能有效

专利信息
申请号: 200510117370.4 申请日: 2005-11-03
公开(公告)号: CN1794572A 公开(公告)日: 2006-06-28
发明(设计)人: 冯宏俊;罗纳德·S·法兹罗 申请(专利权)人: 安捷伦科技有限公司
主分类号: H03H9/17 分类号: H03H9/17;H03H3/02;H01L41/08
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人: 肖善强
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种声共振器,包括衬底、第一电极、压电材料层和第二电极。衬底具有第一表面并且第一电极与该表面相邻。压电材料层与第一电极相邻,第二电极与压电材料层相邻,且位于第一平面内并具有边缘。压电材料层具有相邻于第二电极边缘的凹槽结构。
搜索关键词: 选择性 金属 蚀刻 提高 共振器 性能
【主权项】:
1.一种声共振器,包括:衬底;与衬底相邻的第一电极;与第一电极相邻的压电层,所述压电层包括凹槽结构;和与压电层相邻的第二电极,所述第二电极具有边缘。
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