[发明专利]具有软错误率免疫晶胞结构的半导体芯片无效
申请号: | 200510117373.8 | 申请日: | 2005-11-03 |
公开(公告)号: | CN1783489A | 公开(公告)日: | 2006-06-07 |
发明(设计)人: | 廖忠志 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L27/108;H01L27/11;H01L27/105;H01L23/552;H01L23/556 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 台湾省新竹科学*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种具有软错误率免疫晶胞结构的半导体芯片,包括形成在深N型井区中的记忆体元件。该记忆体元件包括一记忆体晶胞。该记忆体晶胞包括第一储存节点与第二储存节点。记忆体晶胞亦包括第一电阻器与第二电阻器分别电性连接至第一储存节点与第二储存节点。记忆体晶胞亦包括第一电容器与第二电容器分别电性连接至第一储存节点与第二储存节点。一内层介电层位于记忆体元件上。该内层介电层包括至少一不含硼的介电材料。一内金属介电层位于内层介电层上,该内金属介电层的介电常数小于约3。聚亚酰胺层位于内金属介电层上。聚亚酰胺层的厚度小于约20微米。 | ||
搜索关键词: | 具有 错误率 免疫 晶胞 结构 半导体 芯片 | ||
【主权项】:
1、一种具有软错误率免疫晶胞结构的半导体芯片,其特征在于其至少包括:一基材;一第一介电层位于该基材上,其中该第一介电层的一介电常数小于3,且该第一介电层至少包括复数个金属导线;以及一聚亚酰胺层位于该第一介电层上,其中该聚亚酰胺层的一厚度小于20微米。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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