[发明专利]曝光方法无效
| 申请号： | 200510118117.0 | 申请日： | 2005-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN1952783A | 公开（公告）日： | 2007-04-25 |
| 发明（设计）人： | 林俊羽 | 申请（专利权）人： | 茂德科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 魏晓刚;李晓舒 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种曝光方法，适用于一种偏轴照明系统。此方法是先提供一个具有第一图案与第二图案的光罩，并对此光罩进行分析以得到分别对应第一图案的第一光源强度分布与对应第二图案的第二光源强度分布。提供数个光束经过此光罩的第一图案而形成数个第一影像，以取得相对应的第一光源强度分布。接着，提供数个光束经过光罩的第二图案而形成数个第二影像，以取得相对应的第二光源强度分布。将光源调整为第一光源强度分布，以对此光罩的第一图案进行曝光。然后，将此偏轴照明系统的光源调整为第二光源强度分布，以对此光罩的第二图案进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光方法，适用于一偏轴照明系统，该方法包括：提供一光罩，该光罩至少包括一第一图案与一第二图案；对该光罩进行分析以得到分别对应该第一图案的一第一光源强度分布与对应该第二图案的一第二光源强度分布，并储存分析结果在一储存装置；以及进行曝光时，该偏轴照明系统的一光源以储存在该储存装置的该第一光源强度分布对该光罩的该第一图案进行曝光，以及改变该偏轴照明系统的该光源，以储存在该储存装置的该第二光源强度分布对该光罩的该第二图案进行曝光。
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