[发明专利]介电层的制造方法

摘要

一种介电层的制造方法，首先提供一衬底，并于衬底上形成介电层。然后，对介电层进行氮化工艺。然后，对介电层进行第一退火工艺，第一退火工艺所使用的气体为含有不活泼气体与氧气的第一气体，其中第一气体的不活泼气体对氧气具有第一分压比。之后，对介电层进行第二退火工艺，第二退火工艺所使用的气体为含有不活泼气体与氧气的第二气体，其中第二气体的不活泼气体对氧气具有第二气体分压比，且第二气体分压比小于第一气体分压比。此外，二次退火工艺中至少有一次温度要在950℃以上。此发明方法可使介电层中的氮掺杂剂分布均匀。

主权项

1.一种介电层的制造方法，包括：提供一衬底；于该衬底上形成一介电层；对该介电层进行一氮化工艺；对该介电层进行一第一退火工艺，所使用的气体为含有一不活泼气体与氧气的一第一气体，该第一气体的该不活泼气体对氧气具有一第一分压比；以及对该介电层进行一第二退火工艺，所使用的气体为含有该不活泼气体与氧气的一第二气体，该第二气体的该不活泼气体对氧气具有一第二气体分压比，且该第二气体分压比小于该第一气体分压比。