[发明专利]光学位置确定设备及方法

摘要

一种光刻设备，包含支撑衬底的衬底平台，其中衬底在其表面上具有对准标记。该设备进一步包含可相对于衬底移动的框架，从而提供扫描工作模式或步进工作模式。投影系统阵列置于框架上，以将各个图形化射束投影到衬底的目标部分上。多个对准标记探测器被连接到该框架，且可使用各自的线性驱动机械装置相对该框架移动。位置传感器和每个对准标记探测器相关联，用于确定该探测器相对于该框架的位置。控制系统负责探测器在衬底上的对准标记图形上的初始定位，也负责光刻过程中该框架和衬底的动态对准。

主权项

1.一种光刻设备，包括：产生辐射束的照明系统；图形化该辐射束的图形产生装置；支撑衬底的衬底平台，该衬底在其表面上设有对准标记；相对衬底可移动的框架；耦合到该框架的一个或多个投影系统，其中该一个或多个投影系统能够将图形化射束投影到衬底的目标部分上；耦合到该框架并可相对于该框架移动的一个或者多个对准标记探测器；以及和该一个或多个对准标记探测器中每一个相关联的位置传感器，其中该位置传感器确定该一个或多个对准标记探测器相对于该框架和该一个或多个投影系统中至少一个的位置。