[发明专利]光学膜及其制作方法无效
申请号: | 200510118586.2 | 申请日: | 2005-10-31 |
公开(公告)号: | CN1959440A | 公开(公告)日: | 2007-05-09 |
发明(设计)人: | 李光荣;王丹青;庄毓蕙 | 申请(专利权)人: | 力特光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B1/04 | 分类号: | G02B1/04 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 陈肖梅;谢丽娜 |
地址: | 中国台湾桃园县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及一种光学膜及其制作方法,其利用溶剂铸膜技术将混掺的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)均匀混合在溶剂中以形成一湿膜,并利用加热上述湿膜以形成一光学干膜,其中特别是至少一种PMMA、被取代官能基的PMMA或PMMA混掺;以及溶剂,该PMMA、该被取代官能基的PMMA或该PMMA混掺可依所需性质以任意比例均匀混合在该溶剂中以形成一混合溶液,该混合溶液经过热处理后形成光学膜。 | ||
搜索关键词: | 光学 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种光学膜,其特征在于,包含:至少选择一种PMMA、被取代官能基的PMMA以及PMMA混掺中的任一材质;以及溶剂,选择对应所选择的该PMMA、该被取代官能基的PMMA以及该PMMA混掺中的任一材质,依所需性质以任意比例均匀混合在该溶剂中以形成一混合溶液,该混合溶液经过热处理后形成光学膜。
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