[发明专利]具有反铁磁耦合铁磁膜磁性岛的接触磁性转印模板无效

专利信息
申请号: 200510118755.2 申请日: 2005-10-31
公开(公告)号: CN1805017A 公开(公告)日: 2006-07-19
发明(设计)人: 兹沃尼米尔·Z·班迪克;欧内斯托·E·马里尼罗 申请(专利权)人: 日立环球储存科技荷兰有限公司
主分类号: G11B5/86 分类号: G11B5/86;G11B5/84;G11B5/82
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 李晓舒;魏晓刚
地址: 荷兰阿*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及磁性转印模板。使用一种具有反铁磁耦合(AF-耦合)磁性岛的接触磁性转印(CMT)母模板来将磁性图案,如伺服图案转印至磁性记录盘。该模板是其每个磁性岛是两个由反铁磁耦合(AFC)膜反铁磁耦合的铁磁膜的刚性或柔性衬底。在存在有施加的磁场时,两个铁磁膜的磁矩是平行的并且基本相等,因此它们产生了一个能抵消从属盘的与岛相面对的区域中的施加的磁场的磁场。然而,当去除了施加的磁场时,由于跨越AFC膜的反铁磁性交换耦合,任何剩余磁化将导致两个铁磁膜内的剩余磁矩被反平行地定向。因此岛将不具有能够影响被转印到从属盘的伺服图案的净剩余磁矩。
搜索关键词: 具有 反铁磁 耦合 铁磁膜 磁性 接触 印模
【主权项】:
1.一种接触磁性转印模板,其包括:衬底;所述衬底上的多个磁性区域,每个区域包括由反铁磁耦合(AFC)膜分离开的第一和第二铁磁膜,存在施加的磁场时所述第一和第二铁磁膜具有基本平行的磁矩。
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