[发明专利]具有密封膜的芯片尺寸的半导体装置及其制造方法有效
申请号: | 200510119959.8 | 申请日: | 2005-09-16 |
公开(公告)号: | CN1790686A | 公开(公告)日: | 2006-06-21 |
发明(设计)人: | 若林猛;三原一郎 | 申请(专利权)人: | 卡西欧计算机株式会社 |
主分类号: | H01L23/28 | 分类号: | H01L23/28;H01L23/485;H01L21/56;H01L21/60 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李香兰 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种芯片尺寸的半导体装置,其实质上包括:具有集成电路和连接焊盘(2)的半导体基板(1);与上述连接焊盘(2)电连接的外部连接用电极(9);设置在上述外部连接用电极(9)的周围的上述半导体基板(1)上的第一密封材料(10),上述第一密封材料(10)中含有的Na离子、K离子、Ca离子和Cl离子的各杂质浓度在10ppm以下;和至少设置在上述半导体基板(1)的下表面及其周边侧面上的第二密封材料(12),上述第二密封材料(12)中含有的Na离子、K离子、Ca离子和Cl离子的总杂质浓度在100ppm以上。 | ||
搜索关键词: | 具有 密封 芯片 尺寸 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种半导体装置,其特征在于,包括:半导体基板(1),其具有集成电路和连接焊盘(2);外部连接用电极(9),其与所述连接焊盘(2)电连接;第一密封膜(10),其设置在所述外部连接用电极(9)的周围的所述半导体基板(1)上;在所述第一密封膜(10)中含有的Na离子、K离子、Ca离子和Cl离子的各杂质浓度在10ppm以下;和第二密封膜(12),其设置在所述半导体基板(1)的下表面以及周边侧面的至少任一个上;所述第二密封膜(12)中含有的Na离子、K离子、Ca离子和Cl离子的合计杂质浓度在100ppm以上。
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