[发明专利]用于形成抗反射涂层的组合物有效
| 申请号： | 200510120497.1 | 申请日： | 2003-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN1782872A | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | 平山拓;山田知孝;川名大助;田村弘毅;佐藤和史 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉;贾静环 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于形成抗反射涂层的组合物，特征在于其包含有机溶剂并，在其中溶解下列物质：(A)由(a1)10－90摩尔％(羟基苯基烷基)倍半硅氧烷单元、(a2)0－50摩尔％(烷氧基苯基烷基)倍半硅氧烷单元和(a3)10－90摩尔％烷基或苯基倍半硅氧烷单元组成的梯形硅酮共聚物，(B)暴露于热或光下可产生酸的产酸剂，和(C)交联剂，而且该组合物能够形成对ArF激光的光学参数(k值)为0.002－0.95的抗反射涂层。该组合物可溶于有机溶剂，能够通过常规的旋涂法容易地进行涂覆，具有良好的储存稳定性，且可以向其中通过引入吸收辐射线的发色团来表现出对反射的调节预防能力。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 反射 涂层 组合 | ||
【主权项】：
1.一种梯形硅酮共聚物，其含有(羟基苯基烷基)倍半硅氧烷单元和烷基倍半硅氧烷单元。
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