[发明专利]离子源及使用所述离子源的模具抛光装置有效
申请号: | 200510120697.7 | 申请日: | 2005-12-14 |
公开(公告)号: | CN1983504A | 公开(公告)日: | 2007-06-20 |
发明(设计)人: | 陈杰良 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/08 | 分类号: | H01J37/08;H01J27/02;B23H1/00;B23H9/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种离子源及使用所述离子源的模具抛光装置。所述模具抛光装置包括一离子源,所述离子源用于发射进行抛光的离子束,所述离子源包括一腔体及设置于所述腔体中的一阴极灯丝、一阴极、一屏极、一加速极及一可调屏极,所述阴极靠近所述阴极灯丝设置,所述屏极、加速极及可调屏极依次远离所述阴极设置,所述可调屏极包括一通孔,所述通孔大小及形状可调,从而可利用所述通孔调节射出的离子束截面大小及形状。利用本明的模具抛光装置,可获得中心线平均表面粗糙度处于0.2~1纳米的平滑表面。 | ||
搜索关键词: | 离子源 使用 模具 抛光 装置 | ||
【主权项】:
1.一种离子源,其包括一腔体及设置在所述腔体中的一阴极灯丝、一阴极、一屏极、一加速极及一可调屏极,所述阴极靠近所述阴极灯丝设置,所述屏极、加速极及可调屏极依次远离所述阴极设置,且其上的电位依次降低,所述可调屏极包括一通孔,所述通孔大小及形状可调,从而可利用所述通孔调节射出的离子束截面大小及形状。
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