[发明专利]用于确定Z位置误差/变化以及基板台平整度的光刻装置和方法有效
| 申请号： | 200510121712.X | 申请日： | 2005-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN1837959A | 公开（公告）日： | 2006-09-27 |
| 发明（设计）人： | W·H·G·A·科恩恩;A·W·E·明纳尔特;L·欧维亨特;J·M·T·A·阿德里安斯;W·O·普里尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;G06F17/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄力行 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻投影系统，包括：构成为提供辐射束的照明系统；构成为支撑图案化器件的支架，该图案化器件构成为将图案赋予到光束的截面中；构成为保持基板(W)的基板台(WT)，构成为将图案化的辐射投影到基板(W)的目标部分上的投影系统；多个水平传感器(LS)，用于在多个不同的位置处感测承载于基板台(WT)上的基板的水平，和用于确定基板台(WT)的位置的系统。还提供了控制器，该控制器构成为引起基板(W)和水平传感器阵列之间从进行第一测量的第一位置向进行进一步测量的多个重叠位置的相对移动，和计算器，用于使用多个重叠测量值来计算Z位置误差测量值和/或基板台(WT)不平整度和/或水平传感器(LS)位置/偏移的测量值。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 位置 误差 变化 以及 基板台 平整 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻投影装置，包括：构成为提供辐射束的照明系统；构成为保持基板的基板台；多个水平传感器，用于在多个不同位置处感测承载于基板台上的基板水平；用于在至少Z-方向上确定基板台位置的系统；控制器，构成为引起在基板和水平传感器阵列之间相对移动，以使多个水平传感器中的每一个可移动到在基板上的第一点处进行测量的位置，从而提供第一组重叠的测量值，以及使多个水平传感器中的每一个都可移动到基板上的至少一个另外的测量点，从而提供至少一组另外的重叠的测量值；和计算器，用于使用多个重叠的测量值计算位置误差的测量值、基板台不平整度的测量值和水平传感器位置/偏移的测量值中的至少一个。
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