[发明专利]掩模组件以及使用该掩模组件的掩模框组件无效
申请号: | 200510123318.X | 申请日: | 2005-11-17 |
公开(公告)号: | CN1776525A | 公开(公告)日: | 2006-05-24 |
发明(设计)人: | 金义圭;金泰亨 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | G03F1/16 | 分类号: | G03F1/16;G03F1/00 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郭鸿禧;韩素云 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种掩模组件,其被构造成防止掩模热变形并保持多个分开的图案掩模之间的间隙。根据一个实施例,该掩模组件包括:开口掩模,其具有在行或列上排列的多个第一开口;图案掩模,其包括多个单位图案掩模。在一些实施例中,可相对于开口掩模固定单位图案掩模的端部,该单位图案掩模包括被构造成与开口掩模的多个第一开口对齐的多个掩模图案单元。在一些实施例中,拉力被施加到单位图案掩模。 | ||
搜索关键词: | 模组 以及 使用 掩模框 组件 | ||
【主权项】:
1、一种用于沉积平板显示器的薄膜的掩模组件,所述掩模组件包括:开口掩模,包括在行或列上排列的多个第一开口,所述行形成在第一方向上,所述列形成在第二方向上;图案掩模,包括多个单位图案掩模;其中,在所述第一方向或所述第二方向上通过将各单位图案掩模的两端固定到所述开口掩模,而使拉力施加到单位图案掩模。
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- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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