[发明专利]溅镀靶及其制造方法无效
| 申请号： | 200510123330.0 | 申请日： | 2002-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN1788915A | 公开（公告）日： | 2006-06-21 |
| 发明（设计）人： | 渡边弘;高桥诚一郎;山崎贵史 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | B23K26/36 | 分类号： | B23K26/36 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种溅镀靶的制造方法，通过由宽度为100μs以下的脉冲输出的激光进行表面处理，经升华等除去在研削加工时生成的毛刺和研削粉末、特别是粉尘和尘埃等，因此可以使靶子开始使用时所产生的初期电弧显著降低，并能够提高初期稳定性，以低成本进行溅镀靶的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 溅镀靶 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种溅镀靶的制造方法，其特征在于：具有由宽度为100μs以下的脉冲输出的激光进行表面处理的工序。
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