[发明专利]用于沉积的掩模和制造该掩模的方法有效
申请号: | 200510123341.9 | 申请日: | 2005-11-23 |
公开(公告)号: | CN1779566A | 公开(公告)日: | 2006-05-31 |
发明(设计)人: | 金义圭;金泰亨 | 申请(专利权)人: | 三星SDI株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/16 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 韩明星;冯敏 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种用于沉积平板显示器的薄膜的掩模以及制造该掩模的方法。掩模的实施例能够提高定位的精度,并且通过利用缓冲构件连接加固构件和布置在加固构件的开口上的掩模图案单元来防止由掩模的热膨胀引起的问题。掩模包括:加固构件,包括多个第一开口;掩模图案单元,与加固构件的第一开口对应布置,并由加固构件支撑;缓冲构件,包括与加固构件的第一开口对应的多个第二开口,并且连接加固构件和掩模图案单元,以支撑加固构件和掩模图案单元。 | ||
搜索关键词: | 用于 沉积 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种掩模,包括:加固构件,包括至少一个第一开口;至少一个掩模图案单元,布置在与所述至少一个第一开口对应的位置,并且由所述加固构件支撑;缓冲构件,包括与所述至少一个第一开口对应的至少一个第二开口,并且连接所述加固构件和所述掩模图案单元,以支撑所述加固构件和所述掩模图案单元。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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