[发明专利]半导体检查装置以及半导体装置的制造方法无效
申请号: | 200510123379.6 | 申请日: | 2005-11-25 |
公开(公告)号: | CN1797732A | 公开(公告)日: | 2006-07-05 |
发明(设计)人: | 春日部进 | 申请(专利权)人: | 瑞萨科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01R31/26;G01R1/073 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郝庆芬 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及半导体检查装置以及半导体装置的制造方法。使构成半导体检查装置的测试盒(5)的测试片(6)的主面上配置的多个接触端子(6a)与配置成面对测试片(6)的主面的半导体晶圆(1)的主面的多个半导体芯片的多个电极(3)接触来检查半导体晶圆(1)的半导体芯片的电特性,此时,降低形成于测试片(6)的主面和半导体晶圆(1)的主面的面对面之间的空间(13)的气压,把半导体晶圆(1)吸引到测试片(6)的主面侧,通过主要使半导体晶圆(1)变形来使半导体晶圆(1)的多个半导体芯片的上述多个电极(3)按压接触与其面对的测试片(6)的主面的多个接触端子(6a)。 | ||
搜索关键词: | 半导体 检查 装置 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体检查装置,其特征在于,具有:(a)支撑部件,支撑具有第1主面以及其背面侧的第2主面并具有在上述第1主面上形成的多个半导体芯片和在上述多个半导体芯片的各个上配置的多个电极的半导体晶圆;(b)测试片,具有相对于上述半导体晶圆的第1主面隔开所希望的空间而面对的第3主面、上述第3主面的背面侧的第4主面、在上述第3主面配置的多个接触端子、从上述多个接触端子的各个引出的多条布线以及通过上述多条布线在上述第4主面引出的多个引出电极;(c)检测器,与上述测试片的上述多个引出电极连接,一起电检查上述半导体晶圆的多个半导体芯片;以及(d)减压机构,在上述检查时,对上述所希望的空间进行减压,通过主要使上述半导体晶圆变形,使上述半导体晶圆的多个半导体芯片的各个的多个电极处于与上述测试片的多个接触端子接触的状态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨科技有限公司,未经瑞萨科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510123379.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造