[发明专利]磁记录介质及其制造方法、磁存储设备、基板及纹理形成设备无效
| 申请号： | 200510123774.4 | 申请日： | 2005-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN1801334A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | 佐藤贤治 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/73;G11B5/82;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 磁记录介质及其制造方法、磁存储设备、基板及纹理形成设备。磁记录介质(10)具有可以提高记录层(18)的取向度的纹理(11a)。该磁记录介质通过在记录方向上对记录层(18)进行磁化来记录信息。基础层(13)形成在基板上。记录层(18)形成在基础层(13)上。具有多个沟槽(11a－1)的纹理(11a)形成在基础层(13)下面。沟槽(11a－1)沿大致与记录方向平行的方向延伸，并以大致预定的间隔沿与记录方向垂直的方向设置。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 存储 设备 纹理 形成 | ||
【主权项】：
1、一种磁记录介质，用于通过在预定记录方向上对记录层进行磁化来记录信息，该磁记录介质包括：基板；形成在所述基板上的基础层；以及形成在所述基础层上的所述记录层，该磁记录介质的特征在于：在所述基础层下面形成有具有多个沟槽的纹理，所述沟槽沿大致与所述预定记录方向平行的方向延伸，并且以大致预定的间隔沿与所述预定记录方向垂直的方向设置。
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