[发明专利]磁阻元件,磁阻磁头,磁记录设备以及磁存储器有效

专利信息
申请号: 200510124691.7 申请日: 2005-11-07
公开(公告)号: CN1801332A 公开(公告)日: 2006-07-12
发明(设计)人: 福泽英明;汤浅裕美;鸿井克彦;岩崎仁志 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11B5/39 分类号: G11B5/39;G01R33/09;H01L43/08;H01F10/10
代理公司: 上海市华诚律师事务所 代理人: 徐申民;张惠萍
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 磁阻元件包括磁化方向基本固定在一个方向上的磁化固着层、磁化方向取决于外场变化的磁化自由层、以及包括设置在磁化固着层和磁化自由层之间的绝缘层和穿透该绝缘层的电流通路的分隔层,位于分隔层下面的磁化固着层或磁化自由层包括由横跨其厚度延伸的晶界分离的晶粒,其中,假设每个晶粒的一端的平面内位置被设定为0,并且与该晶粒的另一端相邻的晶界的平面内位置被设定为100,则对应于该晶粒的电流通路在平面内位置为大于等于20小于等于80之间的范围内的区域上形成。
搜索关键词: 磁阻 元件 磁头 记录 设备 以及 磁存储器
【主权项】:
1.一种磁阻元件,其特征在于,包括:磁化方向基本固定在一个方向上的磁化固着层;磁化方向取决于外场变化的磁化自由层;以及分隔层,包括设置在磁化固着层与磁化自由层之间的绝缘层和穿透该绝缘层的电流通路,位于分隔层下面的磁化固着层或磁化自由层包括由横跨其厚度延伸的晶界分开的晶粒,其中,假设每个晶粒的一端的平面内位置被设定为0,并且与该晶粒的另一端相邻的晶界的平面内位置被设定为100,则对应于每个晶粒的电流通路在平面内位置为大于等于20小于等于80之间的范围内的晶界区域上形成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510124691.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top