[发明专利]抗反射层基板及其制作方法有效
| 申请号： | 200510124842.9 | 申请日： | 2005-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN1971950A | 公开（公告）日： | 2007-05-30 |
| 发明（设计）人： | 林烱暐;邓建甫;陈易良 | 申请（专利权）人： | 大同股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/20 | 分类号： | H01L31/20;H01L31/0232;H01L31/0352;H01L21/306;C23F1/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 中国台湾台北*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明是有关于一种具有抗反射层的基板，以及其制作方法，其中方法包括：(a)提供一基板；(b)沉积一非晶硅层(amorphous Silicon)于基板上；以及(c)以一蚀刻液蚀刻非晶硅层及基板，且非晶硅层是被蚀刻液所移除。 | ||
| 搜索关键词： | 反射层 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1、一种具有抗反射层基板的制作方法，其特征在于，包括：(a)提供一基板；(b)沉积一非晶硅层于该基板上；以及(c)以一蚀刻液蚀刻该非晶硅层及该基板，且该非晶硅层是被该蚀刻液所移除。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大同股份有限公司，未经大同股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510124842.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：含有蛋白水解产物的化妆品组合物
- 下一篇：显示装置和显示装置的修复方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
