[发明专利]薄膜晶体管、其制造方法、显示设备及其制造方法有效
申请号: | 200510124866.4 | 申请日: | 2005-11-23 |
公开(公告)号: | CN1790750A | 公开(公告)日: | 2006-06-21 |
发明(设计)人: | 金湘甲;金时烈;朴弘植;崔熙焕;秦洪基;吴旼锡 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336;G02F1/136 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 公开了一种薄膜晶体管,该薄膜晶体管包括在基板上的栅电极,在所述基板上的栅极绝缘层,沟道图案,源电极和漏电极。所述沟道图案包括:形成在所述栅电极上并覆盖所述栅电极的半导体图案;以及形成在所述半导体图案上并彼此隔开的第一和第二导电粘合图案。所述源电极包括顺序形成在所述第一导电粘合图案上的第一阻挡图案、源极图案和第一覆盖图案。所述漏电极包括顺序形成在所述第二导电粘合图案上的第二阻挡图案、漏极图案和第二覆盖图案。所述第一和第二导电粘合图案的蚀刻部分具有基本竖直的轮廓从而防止了源电极和漏电极的暴露,由此改善了薄膜晶体管的特性。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 制造 方法 显示 设备 及其 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,包括:在基板上的栅电极;在所述基板上以绝缘所述栅电极的栅极绝缘层;沟道图案,所述沟道图案包括:在所述栅电极上的半导体图案,使该半导体图案覆盖所述栅电极;在所述半导体图案上的第一导电粘合图案;以及形成在所述半导体图案上并与所述第一导电粘合图案隔开的第二导电粘合图案;源电极,所述源电极具有顺序形成在所述第一导电粘合图案上的第一阻挡图案、源极图案和第一覆盖图案;以及漏电极,所述漏电极具有顺序形成在所述第二导电粘合图案上的第二阻挡图案、漏极图案和第二覆盖图案。
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