[发明专利]分步重复光照纳米压印装置

摘要

分步重复光照纳米压印装置，由压力驱动系统、Z向校准机构、双路CCD对准系统、倾斜校准机构、压模、基片、XYθ工件台、基片承片调平系统、大机台柜、控制系统、主机大底板和紫光均匀照明系统及机架等部分组成，能装载基片的承片调平系统安装于XYθ工件台上，机架上安装了压力驱动系统、Z向校准机构、倾斜校准机构和压模，双路CCD对准系统和紫光均匀照明系统，它既不需要弹性印章或铸模，也不需要加高温、高压和降温，只需普通紫光照射，应用CCD图像高精度对准，就能分步重复廉价制作出较复杂多层结构、较大有效工作面积和有利于推广应用的纳米图形结构。

主权项

1、分步重复光照纳米压印装置，其特征在于：它由压力驱动系统(1)、Z向校准机构(2)、双路CCD对准系统(4)、倾斜校准机构(5)、压模(7)、基片(9)、XYθ工件台(8)、基片承片调平系统(10)、大机台柜(11)、电气控制系统(12)、主机大底板(13)、气章(14)、液滴器(15)和紫光均匀照明系统(17)以及机架(23)组成，大机台柜(11)的大台面上放置主机大底板(13)，主机大底板(13)上位置有XYθ工件台(8)，在XYθ工件台(8)上安放了基片承片调平系统(10)，用以装载基片(9)，使基片(9)连同基片承片调平系统(10)随XYθ工件台(8)作XYθ的位置移动，处于压模(7)正对的被压位置下方，同时还能作Z向调平；主机大底板(13)上还安装了机架(23)，压力驱动系统(1)通过机架(23)的顶部固定在XYθ工件台(8)的正上方，可沿Z向直线导轨作上下运动，带动能进行Z向校准的Z向校准机构(2)和能进行倾斜校准的倾斜校准机构(5)及压模卡盘(6)作上下运动，从而也带动压模(7)下压制作纳米结构图形和下压后回升脱模；双路CCD对准系统(4)的对准显微镜从背后伸入Z向校准机构(2)内，并固定在机架(23)上，可检测压模(7)和基片(9)的对准偏差，控制XYθ工件台(8)使基片(9)移动，达到对准；紫光均匀照明系统(17)固定在机架(23)上，其照明头也从背后伸入Z向校准机构(2)内，由快门控制射出紫光(3)照射压模(7)与基片(9)之间的压印层聚合物，使聚合物固化；液滴器(15)也固定在机架(23)上，在压制前先滴出聚合物液滴到基片(9)上，以预置将要压印区域的聚合物液体层，气章(14)的气章足工作位置也是基片承片调平系统(10)的调平位置；电气控制系统(12)分别控制压力驱动系统(1)、XYθ工件台(8)、双路CCD对准系统(4)、Z向校准机构(2)、倾斜校准机构(5)和紫光均匀照明系统(17)工作。