[发明专利]纳米压印和光学光刻匹配混合的声表面波器件制备方法有效
| 申请号： | 200510126232.2 | 申请日： | 2005-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN1979340A | 公开（公告）日： | 2007-06-13 |
| 发明（设计）人： | 王丛舜;牛洁斌;涂德钰;谢常青;陈宝钦;刘明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 段成云 |
| 地址： | 100029*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种采用纳米压印和光学光刻匹配混合的声表面波器件制备方法，其工艺步骤如下：1.在压电基片上旋涂压印胶；2.制备含有声表面波器件叉指图形和对准标记的压模并对其表面进行防粘连处理；3.将压模压入压印胶中，通过加热、加压或紫外光辐照固化等压印方式得到叉指和对准标记的胶图形；4.分离压模和基片；5.利用氧等离子干法刻蚀残胶，直到露出基片；6.溅射或蒸发电极材料；7.剥离得到叉指电极和对准标记图形；8.在基片上旋涂光刻胶；9.对声表面波器件的其余图形进行套准光刻；10.溅射或蒸发电极材料；11.剥离得到图形，完成声表面波器件的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 压印 光学 光刻 匹配 混合 表面波 器件 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、采用纳米压印和光学光刻匹配混合的声表面波器件制备方法，是由一次压印、一次光学光刻、两次金属淀积和两次剥离来获得声表面波器件；其特征在于，其步骤如下：步骤1、在压电基片上旋涂压印胶；步骤2、制备含有声表面波器件叉指图形和对准标记的压模并对其表面进行防粘连处理；步骤3、将压模压入压印胶中，进行压印；步骤4、分离压模和基片；步骤5、利用氧等离子干法刻蚀残胶，直到露出基片；步骤6、在基片上蒸发或溅射电极材料；步骤7、剥离得到叉指电极和对准标记图形；步骤8、在基片上旋涂光刻胶；步骤9、对声表面波器件的其余图形进行套准光刻；步骤10、溅射或蒸发电极材料；步骤11、剥离得到图形，完成声表面波器件的制备。
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