[发明专利]闭管化学气相传输法生长ZnO单晶方法无效
申请号: | 200510126238.X | 申请日: | 2005-11-30 |
公开(公告)号: | CN1978713A | 公开(公告)日: | 2007-06-13 |
发明(设计)人: | 赵有文;董志远;段满龙;魏学成 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C30B25/00 | 分类号: | C30B25/00;C30B29/16 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 段成云 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及微电子和光电子用化合物半导体材料制备技术领域,特别是一种闭管化学气相传输法生长ZnO单晶方法。在封闭的石英管内,一端放置高纯ZnO粉作为源,另一端放置籽晶,通过控制源区与生长区的温度分布实现气相传输,生长ZnO体单晶,在生长过程中放入少量的高纯碳。选用一端为平面封口的圆形石英管作外管,再选用一根外径与籽晶片直径相同的石英管称为内管,用来顶住籽晶片,使其固定在石英管的平面端,ZnO粉放置在内管的另一端,同时放入少量的高纯碳粉,然后外管接真空系统,抽真空后用石英封泡封闭,将封好口的石英管放入水平加热炉内升温加热,控制温度分布进行ZnO单晶生 长。 | ||
搜索关键词: | 化学 相传 生长 zno 方法 | ||
【主权项】:
1.一种闭管化学气相传输法生长ZnO单晶方法,在封闭的石英管内,一端放置高纯ZnO粉作为源,另一端放置籽晶,通过控制源区与生长区的温度分布实现气相传输,生长ZnO体单晶,在生长过程中放入少量的高纯碳。
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