[发明专利]薄膜应力测试方法及测试结构无效
申请号: | 200510126258.7 | 申请日: | 2005-12-02 |
公开(公告)号: | CN1793833A | 公开(公告)日: | 2006-06-28 |
发明(设计)人: | 陈兢;王莎莎 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | G01N13/00 | 分类号: | G01N13/00 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人: | 贾晓玲 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种高灵敏度薄膜应力测试方法,该方法将测试范围集中在衬底的局部,减小该局部基底的厚度,并设计固定的支撑结构;通过测量薄膜淀积前后局部基底的弯曲曲率,得到淀积在基底上的薄膜应力。本发明利用局部基底弯曲来检测薄膜的残余应力,其结构加工工艺和检测方法简单实用,不仅保留了传统基底弯曲法的所有优点,而且消除了传统基底弯曲法的系统误差,可以用于检测薄膜的局部应力,同时检测精度和灵敏度也得到了极大的提高,可以用于测试纳米级薄膜及超低应力薄膜的残余应力。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 应力 测试 方法 结构 | ||
【主权项】:
1、一种薄膜应力测试方法,包括:(1)在衬底上的多个局域上进行衬底减薄;(2)衬底上淀积薄膜材料;(3)刻蚀衬底,使减薄后的衬底形成悬空结构,测量淀积薄膜的悬空结构的弯曲曲率;(4)去除薄膜,测量悬空结构的弯曲曲率,(5)根据薄膜淀积前后悬空结构的弯曲曲率,得到薄膜应力。
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