[发明专利]等离子反应室

摘要

本发明涉及等离子反应室，包括具有内衬的室壁和在硅片传输口设置的内门。所述内门连接有传动机构，该传动结构包括与内门连接的至少两个焊接波文管，各焊接波纹管的中部通过法兰盘安装在密封定位板上，其另一端与导杆连接块连接，在密封定位板4的上方设置有套装在焊接波纹管上的定位机构，在密封定位板4与导杆连接块之间设置有气缸，该气缸固定安装在密封定位板上。该反应室可广泛应用于半导体设备或其他需密封的设备中，实现了内门与内衬的机械限位，机构使用过程中减少了颗粒产生的途径，有效控制颗粒污染；简单的结构，有效地提高内门传动机构使用寿命及稳定性，降低使用成本；焊接波纹管技术成熟，稳定性高，使用寿命长。

主权项

1.等离子反应室，包括具有内衬的室壁和在硅片传输口设置的内门(1)，其特征是所述内门(1)连接有传动机构，该传动结构包括与内门(1)连接的至少两个焊接波文管(2)，各焊接波纹管(2)的中部通过法兰盘安装在密封定位板(4)上，其另一端与导杆连接块(6)连接，在密封定位板4的上方设置有套装在焊接波纹管(2)上的定位机构(3)，在密封定位板4与导杆连接块(6)之间设置有气缸(5)，该气缸固定安装在密封定位板(4)上。