[发明专利]提高气流分布均匀性的气体喷嘴无效
| 申请号： | 200510126306.2 | 申请日： | 2005-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN1850348A | 公开（公告）日： | 2006-10-25 |
| 发明（设计）人： | 陈鹏 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | B05B1/14 | 分类号： | B05B1/14;C23C16/513;C23F4/04;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 练光东 |
| 地址： | 100016*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种气体喷嘴。本发明的提高气流分布均匀性的气体喷嘴包括圆柱本体，在圆柱本体内设有气体主流道，其中气体主流道呈锥筒形状，其末端部形成中心喷气孔。本发明的提高气流分布均匀性的气体喷嘴的优点和积极效果在于：本发明中，由于气体主流道为锥筒形状，所以流经该气体主流道的气体非常容易由与之相通的圆柱体壁上的各个喷气孔中喷出，有利于提高反应室中气体的均匀性，从而提高该半导体晶圆制造工艺中晶圆处理的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 气流 分布 均匀 气体 喷嘴 | ||
【主权项】：
1.一种提高气流分布均匀性的气体喷嘴，包括圆柱本体(2)，在圆柱本体(2)内设有气体主流道(4)，其特征在于所述气体主流道(4)呈锥筒形状，其末端部形成中心喷气孔(7)。
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