[发明专利]一种提高进气均匀性的进气装置无效
| 申请号： | 200510126356.0 | 申请日： | 2005-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN1850350A | 公开（公告）日： | 2006-10-25 |
| 发明（设计）人： | 荣延栋 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | B05B1/14 | 分类号： | B05B1/14;C23C16/44;C23C16/513;C23F3/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王常风 |
| 地址： | 100016*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及微电子技术领域，具体涉及一种提高进气均匀性的进气装置。本发明公开的一种提高腔室进气均匀性的进气装置，包括圆筒状喷嘴主体，所述圆筒状喷嘴主体底端部设有底板，底板上有通孔，所述圆筒状喷嘴主体的下部内壁设有栅，其中，圆筒状喷嘴主体和底板连为一体。本发明与已有技术相比，增大了进气压力，使得进入腔室内的气体更均匀，从而使得等离子体更均匀；改善了工艺的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 均匀 装置 | ||
【主权项】：
1、一种提高腔室进气均匀性的进气装置，包括圆筒状喷嘴主体其特征在于：所述圆筒状喷嘴主体底端部设有底板，底板上有通孔，所述圆筒状喷嘴主体的下部内壁设有栅，其中，圆筒状喷嘴主体和底板连为一体。
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