[发明专利]一种消除刻蚀工艺过程中残余气体的控制方法有效
| 申请号： | 200510126380.4 | 申请日： | 2005-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN1851052A | 公开（公告）日： | 2006-10-25 |
| 发明（设计）人： | 唐果 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23F4/04 | 分类号： | C23F4/04;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 蔡世英 |
| 地址： | 100016*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种消除刻蚀工艺过程中残余气体的控制方法，包括以下步骤：在刻蚀工艺步骤结束时，关闭气体总阀门(V5)和各气体分阀门(V11～V77)；此时硅片正在传送，打开干泵阀门(V9)；利用干泵对气体总阀门(V5)和各气体分阀门(V11～V77)之间的管路进行残气抽除；延续5～10s后，关闭干泵及干泵阀门(V9)。本发明的方法通过控制干泵阀门的开闭及干泵的启动/停止，在硅片传送的同时进行残气抽除，可以节省用分子泵抽净残气的时间，大幅提高设备的生产率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 消除 刻蚀 工艺 过程 残余 气体 控制 方法 | ||
【主权项】：
1、一种消除刻蚀工艺过程中残余气体的控制方法，包括以下步骤：在刻蚀工艺步骤结束时，关闭气体总阀门(V5)和各气体分阀门(V11～V77)；在开始硅片传送时，打开干泵阀门(V9)；利用干泵对气体总阀门(V5)和各气体分阀门(V11～V77)之间的管路进行残气抽除；延续一段时间，关闭干泵及干泵阀门(V9)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510126380.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
