[发明专利]半导体制造设备控制系统及其方法有效

专利信息
申请号: 200510126398.4 申请日: 2005-12-08
公开(公告)号: CN1851587A 公开(公告)日: 2006-10-25
发明(设计)人: 史亚巍 申请(专利权)人: 北京圆合电子技术有限责任公司
主分类号: G05B19/418 分类号: G05B19/418;G05B15/02;H01L21/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人: 练光东
地址: 100016*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及通信领域。本发明提出一种半导体工艺设备控制系统,由工艺处理模块控制器(PMC)、以及相应的接口模块构成,还包括设备模块控制器(EMC)和设备工程数据库(EEDB),其中,EMC作为统一控制器,与PMC、EEDB和接口模块相连,负责总调度与控制;EEDB与EMC和PMC连接,收集并存储来自于EMC以及PMC的信息并提供相应参数。本发明可以实现三大系统在设备端的整合,为工厂自动化系统提供更加整合及高效的设备控制,更大限度的实现半导体制造的弹性化,同时极大程度地简化半导体设备制造商的软硬件定制工作。
搜索关键词: 半导体 制造 设备 控制系统 及其 方法
【主权项】:
1、一种半导体工艺设备控制系统,由工艺处理模块控制器(PMC)、以及相应的接口模块构成,其特征在于还包括设备模块控制器(EMC)和设备工程数据库(EEDB),其中,EMC作为统一控制器,与PMC、EEDB和接口模块相连,负责管理物料的进出以及在设备不同反应模块之间的调度传输,还执行工艺处理任务,并控制物料的传输,以及为物料管理和制造执行系统提供一致接口;EEDB与EMC和PMC连接,收集并存储来自于EMC以及PMC的信息,一方面为EMC提供半导体设备整机级别的运行参数控制,另一方面通过特定的接口模块与工厂先进工艺控制工程系统(APC)进行通信,接收来自APC的工艺过程控制命令以及参数。
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