[发明专利]一种测量刻蚀机反应腔室漏率的方法无效
| 申请号： | 200510126447.4 | 申请日： | 2005-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN1847814A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 张京华 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | G01M3/26 | 分类号： | G01M3/26;G01M3/32 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王常风 |
| 地址： | 100016*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体刻蚀领域，本发明提供了一种测量刻蚀机反应腔室漏率的方法，本发明的方法建立了一个数据表，该数据表保存了各种反应腔室的类型对应的气压稳定时间和测量间隔时间数据，漏率检测程序启动后，自动检测反应腔室类型，并根据数据表中的数据，设定相应的气压稳定时间和测量间隔时间，本发明的技术方案能适用于各种不同类型的反应腔室，并且测试过程全部由计算机完成，使使用者能便捷的获得漏率值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 测量 刻蚀 反应 腔室漏率 方法 | ||
【主权项】：
1、一种测量刻蚀机反应腔室漏率的方法，其特征在于所述方法包括如下步骤：(1)漏率测量程序启动；(2)漏率测量程序检测反应腔室的类型，并根据反应腔室类型从数据表中选择该类型反应腔室对应的气压稳定时间T1、测量间隔时间T2；(3)将反应腔室抽真空至真空压力P，然后将反应腔室的所有进气口封闭；(4)延时T1时间；(5)测量腔室初始压力P1，延时时间T2后，测量腔室的结束压力P2；(6)计算(P2-P1)/T2即可得到腔室的漏率。
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