[发明专利]一种晶片刻蚀设备的气路控制方法有效

专利信息
申请号: 200510126455.9 申请日: 2005-12-09
公开(公告)号: CN1848005A 公开(公告)日: 2006-10-18
发明(设计)人: 杨荣辉 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: G05B19/04 分类号: G05B19/04;G05B19/418;H01L21/00;H01L21/3065;C30B33/12
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人: 王常风
地址: 100016*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种晶片刻蚀设备中气路的控制方法,设置一个初始值为零的计数器,用于对当前处于打开状态的气路进行计数并根据该计数器的数值是否为零来控制总阀门的打开和关闭,为每一个气路设置一个开关标志,该开关标志的初始状态为关,当打开一路气体时,计数器增一,其开关标志置为开状态,同时打开总阀门;当关闭气路时,对气路的开关标志进行判断,为开状态,则设置为关状态并且计数器减一,为关状态,则保持不改变当前的计数器数值;判断计数器数值是否为零,若为零,则关闭总阀门,若不为零,则不关闭总阀门。
搜索关键词: 一种 晶片 刻蚀 设备 控制 方法
【主权项】:
1.一种晶片刻蚀设备中气路的控制方法,所述晶片刻蚀设备包括一台存储了控制程序的工控机和一个与该工控机连接的受控硬件系统,该受控硬件系统包括多个气路,每一个气路都有单独的流量控制器和控制阀门,所有的气路由一个总阀门控制,该工控机用于执行控制程序,并对受控硬件系统的整个工作过程进行控制,其特征是所述方法包括如下步骤:设置一个总阀门状态参数,该参数拥有一个初始值,当任一气路打开或者关闭时,该参数会发生相应的变化,当总阀门状态参数的值变为初始值时,总阀门关闭。
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