[发明专利]光刻设备、器件制造方法以及用于光刻设备的投影元件有效
| 申请号： | 200510126772.0 | 申请日： | 2005-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN1782883A | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | A·J·布里克;D·J·P·A·弗兰肯;M·L·内森;S·劳西 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘红;王忠忠 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻设备、器件制造方法、以及用于光刻设备的投影元件。该光刻设备含有：用于提供脉冲辐射束的辐射系统、用于给该辐射束赋予一图形以形成图形化的辐射束的构图装置、以及具有用于将该图形化的辐射束投影到衬底目标部分的投影元件的投影系统。该设备进一步包括一个致动器，所述致动器用于在该辐射系统的至少一个脉冲期间移动该投影元件，以平移被投影到衬底上的图形化的辐射束。完成该操作的目的为补偿支撑衬底的衬底平台和该投影系统的空间像之间的位置误差。由于该光刻设备的框架系统中的机械振动，会出现该位置误差。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 以及 用于 投影 元件 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：产生脉冲辐射束的辐射系统；用一图形对该辐射束进行构图以形成图形化的辐射束的构图装置；具有投影元件的投影系统，该投影系统将该图形化的辐射束投影到衬底平台上的衬底目标部分；以及致动器，在该辐射系统的至少一个脉冲期间移动该投影元件以平移被投影到衬底上的图形化的辐射束，从而补偿衬底平台和投影系统的空间像之间的位置误差。
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