[发明专利]相变随机存取存储器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200510126836.7 申请日: 2005-11-24
公开(公告)号: CN1825612A 公开(公告)日: 2006-08-30
发明(设计)人: 李相睦;林珍亨;姜闰浩;卢振瑞;徐东硕 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L21/82;H01L45/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种PRAM,及其制造方法。所述PRAM包括晶体管和数据存储器。所述的数据存储器连接至所述晶体管。数据存储器包括顶部电极、底部电极和多孔PCM层。所述的多孔PCM层插入到所述顶部电极和底部电极之间。根据本发明,PRAM具有这样的结构,其能够增大PCM层的电流密度,并降低复位电流。
搜索关键词: 相变 随机存取存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种相变随机存取存储器,其包括:晶体管;以及连接至所述晶体管的数据存储器,所述数据存储器包括顶部电极、底部电极、和插入到所述顶部电极和底部电极之间的多孔相变材料层。
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