[发明专利]聚硅氧烷薄层的生产方法，薄层聚硅氧烷及其应用有效
| 申请号： | 200510126944.4 | 申请日： | 2005-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN1799811A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | 约瑟夫·穆勒;瓦尔特·冈特;迈克尔·鲍尔;库尔特·施塔克 | 申请（专利权）人： | 德国胡塔玛基股份有限两合公司胡塔玛基福希海姆分公司 |
| 主分类号： | B29C47/14 | 分类号： | B29C47/14;B29C47/02;B29C47/06;B29C69/00;B29C65/48;B29C51/00;B32B27/06;C09J129/04;C09J129/00;C09J133/00;B29K83/00;B29K23/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 郭国清;樊卫民 |
| 地址： | 德国福*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种生产可挤出聚硅氧烷薄层的方法，其中挤出该聚硅氧烷层。本发明中聚硅氧烷层可挤出到基质层上，或聚硅氧烷层与基质层一起从挤出模头中挤出。 | ||
| 搜索关键词： | 聚硅氧烷 薄层 生产 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种生产可挤出聚硅氧烷薄层的方法，其中挤出该聚硅氧烷层。
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