[发明专利]潜像叠对量测方法无效
| 申请号： | 200510127112.4 | 申请日： | 2005-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN1920670A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | A·J·登博夫;J·布格胡恩;M·杜萨;A·G·M·基尔斯;M·范德沙尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 杨松龄 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种用于改善的潜像叠对量测的装置和方法。在一个实施例中，采用散射计和过度曝光的叠对目标物来得到更稳健的重叠性测量。叠对量测和曝光可并行地进行。 | ||
| 搜索关键词： | 潜像叠 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：构造成可调节辐射光束的照明系统；构造成可固定图案形成装置的支撑，所述图案形成装置构造成可为光束的横截面施加一定的图案；构造成可固定衬底的衬底台；构造成可将图案化光束投射到所述衬底的一部分上的投影系统；和曝光单元，其包括额外的图案形成装置并构造成可将目标物印制在所述衬底上。
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