[发明专利]不均缺陷检查装置和方法及光掩模的制造方法无效
| 申请号： | 200510127461.6 | 申请日： | 2005-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN1786698A | 公开（公告）日： | 2006-06-14 |
| 发明（设计）人： | 田中淳一 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种可以高精度地检测不均缺陷的不均缺陷检查装置。一种不均缺陷检查装置(10)，具有：光源(12)，其针对规律地排列了单位图形而构成的重复图形，向在透明基板(52)的表面(52A)所具有的光掩模(50)照射光；受光器(13)，其接受来自光掩模的反射光作为受光数据，分析装置(14)分析该受光数据以检测在上述重复图形中产生的不均缺陷，上述光源(12)向光掩模的透明基板的背面(52B)侧照射光。 | ||
| 搜索关键词： | 不均 缺陷 检查 装置 方法 光掩模 制造 | ||
【主权项】：
1.一种不均缺陷检查装置，具有：光源，其针对规律地排列了单位图形而构成的重复图形，向在透光性基板表面所具有的被检查体照射光；受光器，其接受来自上述被检查体的反射光或透射光作为受光数据，该不均缺陷检查装置分析该受光数据从而检测在上述重复图形中产生的不均缺陷，其特征在于，上述光源向上述被检查体的上述透光性基板的背面侧照射光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于HOYA株式会社，未经HOYA株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510127461.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：组蛋白脱乙酰基酶抑制剂与化疗剂的组合
- 下一篇：滚珠轴承保持装置
