[发明专利]抑制二氯化乙烯热解裂化器中焦炭形成的方法无效
| 申请号： | 200510127492.1 | 申请日： | 2005-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN1785944A | 公开（公告）日： | 2006-06-14 |
| 发明（设计）人： | 曹东铉;裴钟昱;金柱烈;金圣原;吴秉哲;河丞柏 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C21/04 | 分类号： | C07C21/04;C07C5/00 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 南霆;朱梅 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种在二氯化乙烯向氯乙烯单体的热解裂化器中抑制焦炭形成的方法。通过裂化器的传热表面与硼化合物的接触而抑制在二氯化乙烯热解反应中发生的焦炭形成。当使用抑制焦炭形成的物质时，形成焦炭的量为不使用抑制焦炭形成的物质时形成焦炭的量的50％或更少。在这种情况下在热解反应中氯化乙烯的转化率和对氯乙烯单体的选择性仍不会受到影响。因此，热解裂化器的效率被最大化。 | ||
| 搜索关键词： | 抑制 氯化 乙烯 裂化 焦炭 形成 方法 | ||
【主权项】：
1、一种在二氯化乙烯热解反应中抑制在热解裂化器的传热表面处形成焦炭的方法，该方法包括使传热表面与由化学式1表示的硼化合物接触：化学式1(M)a(B)b(X)c 其中M为IA或IIA族的金属，或氢；B为硼；a和c各自独立地为0～12的整数，其中3≤a+c＜24；b为1～10的整数；当a＝0，X为氧、氢、卤素、羟基、烷氧基、芳氧基、烷基、芳基、烷基芳基、或芳基烷基；和当a≥1，X为氧。
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