[发明专利]用于金属表面上的有机涂膜的厚度测量方法无效
| 申请号： | 200510127689.5 | 申请日： | 2005-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN1786657A | 公开（公告）日： | 2006-06-14 |
| 发明（设计）人： | 崔熙圣;李孝洙;金真暎;李熙珍 | 申请（专利权）人： | 三星电机株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 李伟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于金属表面上形成的有机涂膜(例如有机可焊保护膜)的厚度测量方法。在此方法中，测量形成于第一金属表面上的至少一个参考有机涂膜的吸收光谱，以及由吸收光谱来计算预定波长范围内的吸收强度。通过破坏性测量来测量参考有机涂膜的厚度。然后，基于参考有机涂膜的吸收强度和测得的厚度来确定相关性。测量所要测量的有机涂膜的吸收光谱。由所要测量的有机涂膜的吸收光谱来计算预定波长范围内的吸收强度，以及基于该相关性，来由有机涂膜的吸收强度来计算其厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金属 表面上 有机 厚度 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于有机涂膜的厚度测量方法，所述方法包括以下步骤：测量形成于第一金属表面上的至少一个参考有机涂膜的吸收光谱；由所述参考有机涂膜的吸收光谱来计算预定波长范围内的吸收强度；通过破坏性测量来测量所述参考有机涂膜的厚度；基于所述参考有机涂膜的吸收强度和测得的厚度来确定吸收强度与膜厚度之间的相关性；测量形成于第二金属表面上的、所要测量的有机涂膜的吸收光谱；由所要测量的有机涂膜的吸收光谱来计算所述预定波长范围内的吸收强度；以及基于吸收强度与膜厚度之间的所述相关性，由所要测量的有机涂膜的吸收强度来计算其厚度。
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