[发明专利]共聚物、树脂组合物、保护膜及保护膜的形成方法有效
申请号: | 200510128538.1 | 申请日: | 2005-11-28 |
公开(公告)号: | CN1789296A | 公开(公告)日: | 2006-06-21 |
发明(设计)人: | 吉泽纯司;梶田彻;加藤嘉文;山内英树;上田二朗 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | C08F220/32 | 分类号: | C08F220/32;C08L33/14;G02B5/20;G02B1/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孙秀武;邹雪梅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种组合物,其含有聚合物,该聚合物含有下述聚合单元:来自(a1)具有环氧乙基或氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物、(a2)具有以甲基丙烯酸1-二乙基丙酯为代表的特定结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元及(a3)与上述聚合单元(a1)、(a2)不同的聚合单元。上述组合物能够形成保存稳定性优良、平坦性高的固化膜,而且,优选用于形成透明性及表面硬度高、耐热耐压性、耐酸性、耐碱性、耐溅射性、蚀刻耐性等各种的耐性优良的光设备用保护膜。 | ||
搜索关键词: | 共聚物 树脂 组合 保护膜 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种共聚物,其特征为,该共聚物〔A-1〕含有下述聚合单元:(a1)来自具有环氧乙基或氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物的聚合单元、及(a2)来自具有下述式(01)表示的结构的聚合性不饱和化合物的聚合单元,此处,R是:碳原子数为5以上的叔烷基;被碳原子数为1~4的烷氧基取代的碳原子数为4以上的叔烷基;上述式中以叔碳原子键合与R键合的氧原子(-O-)的环碳原子数为3以上的环烷基;或上述式中以叔碳原子键合与R键合的氧原子(-O-)的4元环以上的内酯环或内酰胺环。
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