[发明专利]光记录与再现介质制造压模的制造方法无效
| 申请号： | 200510128771.X | 申请日： | 2002-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN1932997A | 公开（公告）日： | 2007-03-21 |
| 发明（设计）人： | 远藤总铭;铃木忠男;清水纯;中野淳 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;B29C33/38 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 康建忠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种具有沿记录光道形成的凹槽(2)、用于在辐照特定波长λ的光L时进行记录和/或再现的光记录与再现介质，其中凹槽(2)的光道间距p最小为200nm，最大为350nm，而凹槽(2)的宽度Wg与光道间距p的比值Wg/p最小为0.24，最大为0.67。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 再现 介质 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制造用于模制光记录与再现介质基底的光记录与再现介质制造压模的制造方法，该光记录与再现介质基底具有沿记录光道形成的凹槽，所述凹槽是摆动凹槽，制造光记录与再现介质制造压模的所述方法包括步骤：在利用对应于预定不均匀图形的图形曝光了所述光致抗蚀剂后，通过显影母盘基底上的光致抗蚀剂，制造光记录与再现介质制造母盘；以及蚀刻从所述光记录与再现介质制造母盘转移的压模，以微型化对应于所述凹槽的凹槽图形的宽度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼株式会社，未经索尼株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510128771.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
