[发明专利]光断层影像装置有效
申请号: | 200510129539.8 | 申请日: | 2005-12-06 |
公开(公告)号: | CN1785122A | 公开(公告)日: | 2006-06-14 |
发明(设计)人: | 藤田宽 | 申请(专利权)人: | 富士能株式会社 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;A61B6/03;G01N21/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 刘建 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开一种光断层影像装置,其光源部使用波长频带互相不同并可同时射出的两个低可干涉光源(10、11),该射出光,被2分为通过2×2耦合器(22)经由探针(30)而照射向被检体(71)的光束,和照射向为每个波长频带所设置的参照反射镜(23、24)的光束。照射向参照反射镜(23、24)的光束通过分色反射镜(26)而被分光,并作为参照光再次返回到2×2耦合器(22),与来自被检体(71)的被检光合波。其后通过分光光学系统,而照射向光检测器(41),并通过在信号处理部(65)中作信号处理,得到有关被检体(71)的不同部位的光断层影像。从而能够以极少的照射时间取得有关被检体的更多的断层影像信息。 | ||
搜索关键词: | 断层 影像 装置 | ||
【主权项】:
1、一种光断层影像装置,其特征在于,具有:光源,其射出至少在两个互相不同的波长频带中具有低可干涉性的光;干涉计,其构成为将从该光源射出的光束分成二束,将其中一方照向被检体,并且将另一方照射向参照面,通过将从该参照面和该被检体各自反射的光束合波,而得到干涉光,并通过光检测器得到该干涉光的光强度分布;信号处理部,其基于由该干涉计所得到的光强度分布信号而得到断层影像信号;在所述光干涉计中,设有波长选择元件,并且相对由该波长选择元件分成二份后的光束,分别设置形成有所述参照面的反射光学元件,所述波长选择元件将照射向所述参照面的所述另一方的光束分离,至少使第一波长频带的光束和第二波长频带的光束不产生相位错位;另外,所述信号处理部构成为,在所述光源的每个波长频带生成所述断层影像信号并输出其合成信号。
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