[发明专利]光刻设备、分划板交换单元及器件制造方法有效
| 申请号： | 200510129549.1 | 申请日： | 2005-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN1786826A | 公开（公告）日： | 2006-06-14 |
| 发明（设计）人： | N·坦卡特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/14;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 原绍辉;胡强 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 披露了一种用于在光刻设备中移动分划板的分划板交换单元。分划板的表面由通过气体可渗透的薄膜框架接附到其上的薄膜保护。分划板交换单元包括分划板准备腔、布置为使得薄膜框架的多个暴露的气体可渗透的部分面向分划板准备腔内部的分划板运送单元，以及净化气体压力和排气压力供给构造，其连接到分划板准备腔且布置为当薄膜框架的暴露的气体可渗透的部分面向分划板准备腔的内部时交替地提供净化气体压力和低于净化气体压力的排气压力到分划板准备腔，使得气体流过薄膜框架交替地进入和离开薄膜和分划板之间的薄膜空间。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 分划板 交换 单元 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，其包括：用于调节辐射束的照射系统；用于支撑分划板的支撑件，分划板用于给辐射束在其截面中赋予图案，分划板的表面由通过气体可渗透的薄膜框架接附到其上的薄膜保护；分划板交换单元，其包括：分划板准备腔；分划板运送单元，其布置为在将分划板移动到支撑件前使得薄膜框架的多个暴露的气体可渗透的部分面向分划板准备腔的内部；以及净化气体压力和排气压力供给构造，其布置为当薄膜框架的暴露的气体可渗透的部分面向分划板准备腔的内部时交替地提供净化气体压力和低于净化气体压力的排气压力到分划板准备腔，使得气体流过薄膜框架交替地进入和离开薄膜和分划板之间的薄膜空间。
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