[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法有效
| 申请号： | 200510129566.5 | 申请日： | 2005-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN1786828A | 公开（公告）日： | 2006-06-14 |
| 发明（设计）人： | 安田周一;金冈雅;金山幸司;宫城聪;茂森和士;浅野彻;鸟山幸夫;田口隆志;三桥毅;奥村刚 | 申请（专利权）人： | 大日本网目版制造株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;G03F7/38 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;王玉双 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 基板处理装置具有：分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、洗涤/显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在洗涤/显影处理模块的洗涤处理单元中进行基板的洗涤以及干燥处理。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，以相邻于曝光装置的方式配置，其特征在于，具有：处理部，其用于对基板进行处理；交接部，其以相邻于上述处理部的一端部的方式设置，用于在上述处理部和上述曝光装置之间进行基板的交接；上述处理部包括：第一处理单元，其在基板上形成由感光性材料构成的感光性膜；第二处理单元，其在由上述第一处理单元形成上述感光性膜之后、并在由上述曝光装置进行曝光处理之前，进行基板的洗涤处理；第三处理单元，其由上述曝光装置进行曝光处理之后对基板进行显影处理。
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