[发明专利]等离子体处理设备无效
| 申请号： | 200510130190.X | 申请日： | 2005-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN1802066A | 公开（公告）日： | 2006-07-12 |
| 发明（设计）人： | 李荣钟;崔浚泳;曹生贤;黄荣周;金钟千 | 申请（专利权）人： | 爱德牌工程有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;H01L21/00;F25D16/00;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐谦;杨红梅 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于在维持于真空状态的室中产生等离子体并使用所述等离子体处理基板的等离子体处理设备。所述等离子体处理设备包括在淋浴头中形成的用于使制冷剂循环的制冷剂通道，从而容易地控制淋浴头的温度并改善等离子体处理的再现性。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理设备，用于在维持于真空状态的室中产生等离子体并使用所述等离子体处理基板，包括：上和下电极，分别在所述室的上面和下面部分提供，用于将高频功率施加到所述室中；淋浴头，连接到所述上电极的下面部分，用于将过程气体扩散到所述室中；制冷剂通道，在水平方向通过所述淋浴头，用于为通过制冷剂而提供通路；以及制冷剂循环单元，连接到所述制冷剂通道的两端，用于将所述制冷剂供应到所述制冷剂通道的一端并从所述制冷剂通道的另一端收集所述制冷剂以使所述制冷剂循环。
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