[发明专利]微结构的制造方法无效
| 申请号： | 200510131009.7 | 申请日： | 2005-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN1978309A | 公开（公告）日： | 2007-06-13 |
| 发明（设计）人： | 蔡欣昌;张育儒;邢泰刚 | 申请（专利权）人： | 台达电子工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种微结构的制造方法包括下列步骤：提供一基板；于该基板上形成一光致抗蚀剂层；于该光致抗蚀剂层之上提供一第一光掩模，该第一光掩模具有至少一不透光区与至少一第一透镜；提供一光源透过该第一光掩模而照射该光致抗蚀剂层；去除部分该光致抗蚀剂层，使该光致抗蚀剂层形成至少一凹部，且该凹部具有一侧壁、一深度与一宽度，其中该侧壁的倾斜角度不小于5度，且该深度与该宽度的比值不小于2。 | ||
| 搜索关键词： | 微结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种微结构的制造方法，其步骤包括：提供一基板；于该基板上形成一光致抗蚀剂层；于该光致抗蚀剂层之上提供一第一光掩模，该第一光掩模包括至少一不透光区与至少一第一透镜；提供一光源透过该第一光掩模而照射该光致抗蚀剂层；以及去除部分该光致抗蚀剂层，使该光致抗蚀剂层形成至少一凹部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台达电子工业股份有限公司，未经台达电子工业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200510131009.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：保温型电热锅
- 下一篇：扇框及具有该扇框的风扇
